一、基于现场总线的等离子体表面处理监控系统的设计（论文文献综述）
马光辉[1]（2020）在《CFETR CS模型线圈超导接头关键技术研究》文中研究指明中国将建造聚变工程实验堆 CFETR（Chinese Fusion Engineering Testing Reactor）,以开展稳态、高效的聚变堆科学研究。中心螺线管（Central Solenoid,CS）线圈是CFETR超导磁体系统的核心部件之一。为发展和验证大型超导磁体的关键技术和制造过程,我们开展了 CFETRCS模型线圈关键技术研究项目,工程目标是产生12 T峰值磁场和1.5 T/s最大磁场变化率,并完成模型线圈的制造和性能评估。超导接头是制造模型线圈的关键技术之一,它承担了连接电回路和冷却回路的重要任务,接头的引入,会产生焦耳热和交流损耗,增大了低温系统的热负荷。文章的主要研究内容如下。首先根据CS模型线圈的导体参数和磁体结构,提出了超导接头的设计要求,对CS模型线圈超导接头进行了结构设计,确定了其结构形式和相关参数。在此基础上,对超导接头的重要设计参数进行了理论分析和估算,主要包括直流电阻、交流损耗等,为超导接头的设计的合理性提供了理论依据。针对CS模型线圈超导接头制造技术,进行了大量的工艺探索和研究。主要包括如下方面:铜材剩余电阻比率测试、终端铜套管钎焊及无损检测、导体去除铠甲、超导电缆表面处理（包括NbTi电缆外表面去镍和镀银、Nb3Sn电缆外表面去铬）、Nb3Sn电缆与终端铜套管烧结实验、NbTi电缆与终端铜套管锡焊实验等。通过对CS模型线圈超导接头制造工艺的研究,确定了可行的接头制备工艺,也为超导接头全尺寸测试样件的制造奠定了基础。然后进行了 NbTi CICC超导接头的研制和测试,验证接头的制造工艺。进行了 NbTi-NbTi全尺寸超导接头样件的设计,并对样件的研制过程进行了详细的描述。设计了 24 kA超导变压器对接头样件进行通电,进行了霍尔传感器的标定和电流测量误差分析,并在不同电流下对超导接头直流电阻进行了测试。并利用次级回路电流衰减法对超导接头的电阻测试结果进行了验证。测得NbTi-NbTi超导接头直流电阻约0.5 nΩ,符合CS模型线圈超导接头设计要求。在CS模型线圈超导接头制造之前,必须要对超导接头进行电学性能测试,基于测试要求和测试装置背景,设计了 Nb3Sn-NbTi超导接头测试样件,介绍了Nb3Sn终端制造的工艺,并对其中接头终端搭接面锡焊进行了详细描述。Nb3Sn-NbTi超导接头直流电阻在5 T背景磁场,47.65 kA运行电流下约1.5 nΩ,满足小于5 nΩ的设计要求,接头交流损耗小于30 J/cycle,在幅值0.2T,频率范围0.03-1 Hz正弦交流磁场下,接头交流损耗在0.1 Hz达到峰值。并用线性求和模型（LSM）和多区局部屏蔽模型（MPAS）对交流损耗测试结果进行了分析和模拟。并根据测试结果,对CS模型线圈AC测试波形下的接头交流损耗功率进行了计算,Nb3Sn-NbTi超导接头在测试波形下热损耗功率峰值约为50W,超导接头最大温升约为0.75 K,温度裕度约为2.15 K,超导接头能稳定运行。
郑鹏[2]（2020）在《CVD回转窑炉控制系统关键技术研究》文中研究说明CVD回转窑炉作为粉体表面包覆改性的重要设备,对其进行国产化自主研发制造有助于加快我国在超细粉体领域的研究进程。近年来,国内一些企业开始进行CVD回转窑炉的自主研发,本文借助校企合作的平台对CVD回转窑炉的控制系统开展研究,主要研究内容如下:1.在对CVD回转窑炉控制需求详细分析的基础上,按照模块化设计的原则设计了以HMI为生产信息交互中枢,辅以PLC为逻辑控制核心的现场集成控制方案,同时针对工厂生产信息共享的需求,设计了基于Client/Server模式的信息共享软件结构。2.完成了控制系统各模块的硬件选型及组态,设计并编写了PLC逻辑控制程序。针对CVD回转窑炉滞后且时变的温度控制特性,设计了基于模糊控制理论的自整定温控PID算法,并在MATLAB Simulink中对温控算法进行仿真优化,实现了炉温的精确控制。针对生产过程中CVD回转窑炉炉内高温且粉尘弥漫的恶劣工况环境,设计了合适的炉压采样管路,同时就生产过程中的炉压波动问题设计了基于模糊控制理论的压力自动调节算法,实现了对炉压的自动调节。3.借助OPC+TCP通讯协议,在MFC中开发了远程客户端监视软件以及现场服务器软件,实现了远程PC终端与PLC之间的实时数据共享,同时在服务器端软件内实现了温控算法和压力自动调节算法。4.通过开展CVD回转窑炉温度控制以及压力自动调节控制试验,对系统的性能指标进行测试,并根据温度和压力的实际控制效果对算法进行优化,最终控制系统的各项指标均达到生产要求。
王若宇[3]（2020）在《用于一氧化氮转化的同轴圆柱介质阻挡放电负载建模与电源设计》文中进行了进一步梳理介质阻挡放电（Dielectric Barrier Discharge,DBD）可以很容易地在大气压下产生低温等离子体,获得自由基、气体原子、激发态原子、离子等强化学活性粒子,并实现通常情况下难以进行的化学反应。主要大气污染物之一一氧化氮（NO）化学性质不活泼,难以通过常规化学手段去除。可以先通过DBD氧化法转化为化学性质活泼的NO2,其去除便变得容易得多。DBD技术因能获得很高的NO转化率,且设备成本低,维护简单,已经得到了广泛的关注。电压源谐振变换器是工业应用广泛的DBD驱动电源,其性能对NO转化效果影响很大。仅单侧有介质的同轴圆柱反应器相较于双侧介质的结构,其结构简单,散热良好,且电极材料能参与理化反应,提高DBD处理效果,常用于气体处理和臭氧制备。然而此类负载在放电时,正反半周放电特性不同,其负载等效模型也是半周不对称的。对此传统模型已经不再适用,有必要提出新等效模型来指导DBD电源的设计。因此本文针对此类负载,进行了半周不对称等效负载模型的建立、带半周不对称负载的电压源谐振变换器的状态分析、DBD电源优化设计、气体处理实验平台的搭建和NO转化实验的开展。首先,传统非线性箝位模型的正反半周电气特性是完全对称的,对于仅单侧有介质的同轴圆柱反应器已不能准确描述。为此,本文在不同频率、不同功率下对该负载的放电不对称现象进行了研究和讨论,阐释了其机理,并提出了半周不对称分段负载模型,该模型能比较准确地描述此类负载。然后,基于半周不对称分段负载模型,本文继续研究了驱动该负载的电压源谐振变换器的运行状态,指出了电压源谐振变换器保持在断续电流模式下工作的条件。基于上述分析,本文设计搭建了电压源谐振变换器、可调电感和高频升压变压器,并通过实验证明了电源实际工况与理论相符,验证了本文理论分析结果和电源设计理论。并根据实际应用需要为DBD电源增设了MODBUS远程通信与控制系统。最后,设计并搭建了采用电压源谐振变换器和同轴圆柱反应器的气体处理实验平台来开展NO转化实验。本文研究了电极材料对NO转化率的影响,实验结果表明同轴圆柱反应器的裸露电极材料对NO转化效果有很大影响;开展了高气体流速流量条件下NO转化效果的研究,在2000L/h的高流量下依然获得了与低流量环境下一样理想的NO转化效果,在本文实验条件下NO转化率可达97%;并探究了高流速流量条件下,电源频率对NO转化效果的影响,发现在本文的实验环境下,20-22kHz是最合适的电源频率。此部分研究揭示了同轴圆柱反应器DBD在高气体流速流量条件下的应用价值,对工业应用具有参考和指导意义。
辛佳诺[4]（2019）在《NC电镀工业园区污水处理工艺方案及自动控制》文中指出随着工业的快速迅猛发展,我国工业区的数量在快速增长,工业区污染治理的任务也越来越繁重。电镀园区的电镀废水成分复杂,处理难度大,必须进行单独处理,达到排放标准后才允许排放。本项研究主要对NC电镀工业园区综合污水的处理工艺方案进行研究,优选出科学合理的处理工艺,并进行工艺设计,为该电镀工业园区污水处理厂的建设提供技术支持。论文以NC电镀工业园区电镀废水处理工程为研究对象,通过比较确定该电镀工业园区电镀废水的处理工艺,并通过小试试验验证主要处理工艺单元的处理效果。研究内容包括综合电镀废水水量、水质的分析与确定;处理工艺方案的选择与分析;主要处理工艺单元的处理效果的实验验证;处理工艺的设计计算,运行效果分析与讨论。根据NC电镀工业园区的规划并类比其他电镀工业区,确定处理规模为1200m3/d;根据园区内已有企业水质的实测,并参考其他电镀企业的水质,确定含氰废水CN-=28.65mg/L;含铬废水 Cr6+=35.3mg/L;综合废水总锌=15.8mg/L,总铜=15.64mg/L,总镍=15.71mg/L。出水执行《电镀污染物排放标准》（GB21900-2008）。根据该电镀工业园区的水质特点和出水水质要求,采用含氰废水、含铬废水分别预处理,然后与综合废水一起处理的方案。含铬废水预处理采用化学还原法,含氰废水预处理采用二氧化氯氧化法,综合废水采用絮凝—沉淀—高效过滤的处理工艺。二氧化氯氧化除氰的验证试验结果表明,对于CN-含量为28.65mg/L的含氰废水,当二氧化氯与CN-的比为4:1时,CN-的剩余浓度为0.29mg/L,再增加投药量,处理效果提高不明显。还原法除铬的验证试验结果表明,对于Cr6+含量为35.26mg/L的含铬废水,当焦亚硫酸钠与Cr6+的比为4:1时,Cr6+的剩余浓度为0.18mg/L,再增加投药量,处理效果提高不明显。综合废水絮凝沉淀的验证试验结果表明,当PAM的投加量在1mg/L,PAC投加量为2.5mg/L时,COD的剩余浓度为80mg/L。建成后的试运行结果表明,NC电镀工业园区污水处理厂的出水指标分别为:总铬=0.5mg/L、总氰化物（以 CN-计）=0.26mg/L、总镍=0.43mg/L、总铜=0.42mg/L、总锌=1.3mg/L,达到设计出水水质要求。含铬废水预处理采用化学还原法,含氰废水预处理采用二氧化氯氧化法,综合废水采用絮凝—沉淀—高效过滤的处理工艺适合NC电镀工业园区废水的处理,处理后的水质达到了《电镀污染物排放标准》（GB21900-2008）。该园区污水处理厂的建设对保护当地环境具有重要意义。
唐宁[5]（2019）在《基于纳米毛细管成形技术的一维纳米线微型气体传感器的制造》文中提出基于纳米结构的微型传感器,因其具有非常高的表体比和极低的功耗,在新型传感器的开发中受到了广泛的关注。然而,目前对于纳米结构的制造大多还依靠昂贵的设备和复杂的工艺,极大限制了基于纳米结构的器件在实际生活中的应用。近年来,逐渐发展的印刷技术被广泛用于微型电子元器件和芯片的制造,其具有制造成本低、可大面积重复制造的优势。但是由于工艺的限制,传统印刷技术很难实现亚微米甚至纳米结构的稳定制造。针对以上问题,本文从器件的底层做起,采用了基于纳米毛细管成形技术的纳米印刷方法,针对制造过程中的关键工艺参数进行了实验和优化,分别在硬质基底和柔性基底上制备了一维有序导电高分子纳米线阵列,单根纳米线线宽小于100 nm,单次印刷面积可以达到1 cm?1 cm。在纳米线结构成功制备的基础上,将其集成为电阻式微型传感器或传感器阵列的敏感单元,并探究集成后的传感器对NH3、NO2、挥发性有机化合物的检测性能。主要研究内容和成果包括:1.本文采用了基于纳米毛细管成形技术的纳米印刷方法,通过优化工艺参数和步骤,成功地在硅基底和柔性基底上实现了一维有序导电高分子纳米线阵列的制造,证明了该技术对基底和功能化材料具有很好的适用性。2.在完成纳米线阵列制备的基础上,实现了基于纳米线的硅基微型气体传感器的制造。通过检测NO2和NH3,对该传感器的气体检测性能和传感机理进行了研究;对比了基于纳米线的器件与薄膜式器件在气体响应上的差别,验证了纳米线结构在检测方面的优势。3.为有效检测和区分不同种类的挥发性有机化合物,本文以氧化石墨烯掺杂的导电聚合物为气敏材料,通过纳米毛细管成形技术开发了基于复合材料纳米线阵列的电子鼻装置,分析了挥发性有机化合物的检测机理,并结合模式识别算法验证了该装置在挥发性有机化合物区分方面的可行性。4.针对柔性器件在气体检测领域的需要,使用纳米毛细管成形技术实现了基于PEODT:PSS纳米线的柔性微型气体传感器的制备,并对该传感器的机械性能、气体检测性能进行了分析;通过设计具有阻抗检测功能的电路板和可实时显示阻抗的手机APP,在集成柔性微型传感器的情况下,实现了基于纳米线的手机交互式可穿戴气体检测系统的制造,并验证了该系统在有毒气体检测和食物腐败过程监测方面的应用潜力。
田野松[6]（2019）在《大气压微波等离子体炬工作平台控制系统的设计与实现》文中研究表明大气压微波等离子体炬由于在常压下能够维持稳定放电,且有较高的电离度和电子密度,使其在工业领域具有很大的应用前景。但是由于大气压微波等离子体炬放电时会产生噪音,在某些情况下会产生有毒气体,并存在着电磁辐射泄露的危险,类似因素导致的恶劣工作环境极大的影响了操作者的身体健康。此外,由于大气压微波等离子体炬系统的功能模块较多,模块间的协同操作比较繁琐,这不仅会在使用时出现误操作的可能性增加,也会使其与其它系统对接构成更大的系统来协调工作的难度增加,从而在一定程度上限制了其应用发展。为此在我们实验室自主设计出的一套大气压微波等离子体设备（APPLAS-MPT3I）的基础上,为这套设备设计制造了基于LabVIEW的控制系统。该系统在考虑以往的操作习惯的前提下,将各模块间的功能合理的集成,使得操作更加安全、方便。同时由于其运行稳定性能优良及结构合理等多方面优势,对大气压微波等离子体炬在工业上的应用拓展,有着一定的促进意义。该系统采用模块化的结构,分别是微波源控制模块、等离子体炬发生装置控制模块、气体流量控制模块及图像采集模块。各个子模块之间互相独立协调配合。等离子体炬控制模块主要由串口继电器及供电电源组成,用于控制热阻开关和点火器。微波电源设有RS-485串口,可直接连接计算机控制功率的输入值并反馈工作参数。气体流量控制模块采用质量流量控制器通过数模转换装置与计算机相连,用于控制气体流量并反馈输入气体流量值。图像采集模块的硬件部分主要是高清USB控制线及与之相连的摄像头,用于实时采集图像并监测等离子体炬放电情况。我们利用该控制系统实现了大气压微波等离子体炬放电的稳定工作状态,研究了大气压微波等离子体对于CO2气体的分解效率。观察到CO2等离子体炬由明亮的中心区域及较暗淡的蓝光余辉区组成;当输入功率低于1200 W或者气体流量低于10 SLM时,等离子体炬会呈不稳定状态。此外,分析了CO2气体输入量及微波输入功率的变化对炬形态的影响,发现等离子体炬的体积受输入功率的影响较大,而气体流量对其影响不大。此外,我们通过拍摄发射光谱对CO2等离子体炬进行了诊断,发现CO2等离子体中在长波区间出现了具有一定强度的C、O元素的原子谱线,而在波长较短区域内的C、O元素的原子谱线几乎都被C2（d3Πg-a3Πu）及CN（B2Σ+-X2Σ+）自由基谱带所覆盖;同时对比了在不同工作参数下及不同位置处等离子体炬的发射光谱强度,并对其内部反应机制进行了初步分析。后续工作我们将从计算CO2等离子体温度与CO2气体分解率及探究通入Ar、N2及CH4对CO2气体分解的影响等方面展开。
赵玛利[7]（2015）在《基于激光3D加工处理系统的含Cu材料表面处理技术研究》文中提出激光表面处理技术利用激光对材料表面照射,实现其结构改变而获得某些新特性,其中激光三维（3D）表面处理技术是目前研究的重要方向,具有效率高、可控性强、无污染等优点,在电子制造业、材料科学等领域有着广泛的应用。本文针对应用广泛的含Cu材料,基于光的电磁传播理论并结合菲涅尔方程,建立了Cu对激光吸收率的理论模型,分析了波长、功率、激光模式、离焦量、脉冲波形等参数对其表面处理效果的影响,搭建了激光3D加工处理系统,进行了表面改性处理实验,并在实验基础上制作了手机天线样品,取得了良好效果。本文的主要工作:1、基于光的电磁传播理论并结合菲涅尔方程,建立了Cu对不同波长激光吸收率模型,研究了近红外及中红外激光对含Cu材料表面特性的影响,为含Cu材料的激光表面处理技术奠定了理论基础。对两种激光处理后的Cu络合物进行扫描电子显微镜（SEM）及光电子能谱（XPS）分析,测量了两种激光处理后的样品表面组分及还原性Cu1+的含量,分析了两种红外激光对Cu络合物分子结构及表面微观形貌的影响。2、研究了激光功率密度及离焦量对黄铜表面氧化物处理效果的影响,结合激光等离子体作用原理,探索了正、负离焦量对激光等离子体冲击波力学作用机制的影响;基于热传导理论,利用二维瞬态温度场分布模型,计算了不同激光功率及离焦量下的黄铜表面温度场;通过SEM-EDS及XPS,测量了激光功率与离焦量对黄铜表面氧化物Cu离子的价态及含量的影响。3、研究了脉冲波形对Cu络合物表面改性处理效果的影响,结合激光热辐射理论,分析了不同脉冲波形对Cu络合物分子结构及表面微观形貌的影响。通过对化学镀后样品表面镀层厚度及附着力的分析,获得了Cu络合物表面处理的最佳脉冲波形。4、采用掺镱光纤激光器、动态聚焦镜、X-Y扫描振镜组及f-theta平场聚焦透镜搭建了激光3D加工处理系统,并对系统误差进行校正,提高了系统的精度及稳定性。
王家乐,程健,刘怡,桑庆双[8]（2012）在《基于CAN总线的低温等离子体设备系统》文中提出基于CAN（控制器局域网）总线的现代测控技术可以提高低温等离子体设备自动控制的实时性、可靠性和可扩展性。针对典型低温等离子体设备实验平台,通过设计制作的智能节点和带有CAN接口卡的PC机建立起了1个基于CAN总线的低温等离子体设备系统,详细介绍了影响该系统实时性的2个关键问题。实验结果表明,该系统可以稳定可靠工作、可以实现对重要参数的自动稳定控制,驱动频率在20～60 Hz之内,真空度上下波动量为9 Pa.
焦明立,郭莉[9]（2009）在《洛阳石化BOPP薄膜电晕系统探讨》文中指出本文从电气控制、影响电晕强度及常见故障处理三个方面介绍了电晕在洛阳石化BOPP薄膜生产线上的应用。
谭立超,潘林峰,何翔[10]（2002）在《等离子体表面处理监控系统数据通讯的CPLD实现》文中指出介绍了等离子体表面处理监控系统数据通讯中数据链路层所需完成的功能 ,提出了用 CPL D完成其功能的方法 :将数据链路层中有限状态机模型与 CPL D在描述有限状态的优势相结合 ,完成半双工的停等协议 .
二、基于现场总线的等离子体表面处理监控系统的设计（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、基于现场总线的等离子体表面处理监控系统的设计（论文提纲范文）
（1）CFETR CS模型线圈超导接头关键技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 能源发展趋势 |
| 1.2 托卡马克聚变装置的发展 |
| 1.3 CFETR工程和CS模型线圈概述 |
| 1.3.1 CFETR工程简介 |
| 1.3.2 CFETR CS模型线圈概述 |
| 1.4 超导接头概述及研究概况 |
| 1.4.1 超导接头概述 |
| 1.4.2 超导接头的研究概况 |
| 1.5 论文研究意义与内容安排 |
| 第2章 CSMC超导接头设计及理论分析 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 CSMC导体设计参数及结构参数 |
| 2.2.1 CSMC导体设计参数 |
| 2.2.2 CSMC结构参数 |
| 2.3 CSMC超导接头设计原则和要求 |
| 2.3.1 CSMC超导接头设计原则 |
| 2.3.2 CSMC超导接头设计要求 |
| 2.4 CSMC超导接头设计 |
| 2.4.1 超导接头结构设计及参数 |
| 2.4.2 冷却方式 |
| 2.5 CSMC超导接头直流电阻分析 |
| 2.6 CSMC超导接头交流损耗分析 |
| 2.6.1 耦合损耗和涡流损耗分析 |
| 2.6.2 磁滞损耗分析 |
| 2.7 CSMC超导接头压力损失理论分析 |
| 2.8 小结 |
| 第3章 超导接头制造工艺技术研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 铜材剩余电阻比率(RRR)测试 |
| 3.2.1 实验平台 |
| 3.2.2 测试结果 |
| 3.3 终端铜套管真空钎焊 |
| 3.4 导体铠甲去除 |
| 3.5 超导电缆表面处理 |
| 3.5.1 NbTi超导电缆外表面去除Ni层及镀银 |
| 3.5.2 Nb_3Sn电缆外表面去除铬层 |
| 3.6 接头终端缩径 |
| 3.6.1 扣压机缩径实验 |
| 3.6.2 挤压缩径实验 |
| 3.7 NbTi超导电缆与终端铜套管锡焊 |
| 3.8 Nb_3Sn电缆与终端铜套管烧结实验 |
| 3.9 小结 |
| 第4章 NbTi CICC超导接头研制及测试 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 测试装置 |
| 4.2.1 测试原理 |
| 4.2.2 超导变压器设计 |
| 4.3 NbTi-NbTi全尺寸超导接头样件研制 |
| 4.3.1 NbTi-NbTi全尺寸超导接头样件设计 |
| 4.3.2 NbTi-NbTi全尺寸超导接头样件关键制造工艺 |
| 4.3.3 NbTi-NbTi接头样件与超导变压器装配 |
| 4.4 NbTi-NbTi超导接头测试结果及分析 |
| 4.4.1 霍尔传感器的标定与电流测量误差 |
| 4.4.2 接头直流电阻测试 |
| 4.4.3 接头直流电阻分析 |
| 4.5 小结 |
| 第5章 Nb_3Sn-NbTi超导接头原型件SULTAN测试及分析 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 Nb_3Sn-NbTi超导接头测试样件研制 |
| 5.2.1 测试要求 |
| 5.2.2 测试装置 |
| 5.2.3 Nb_3Sn-NbTi超导接头测试样件设计 |
| 5.2.4 Nb_3Sn-NbTi超导接头测试样件主要制造工艺 |
| 5.3 Nb_3Sn-NbTi超导接头原型件测试结果及分析 |
| 5.3.1 直流电阻测试结果及分析 |
| 5.3.2 交流损耗测试结果及分析 |
| 5.4 Nb_3Sn-NbTi超导接头在交流测试波形下的热损耗 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 全文总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 创新点 |
| 6.3 未来展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 |
（2）CVD回转窑炉控制系统关键技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 课题来源 |
| 1.2 研究背景及意义 |
| 1.2.1 研究背景 |
| 1.2.2 研究意义 |
| 1.3 CVD回转窑炉控制系统的发展现状 |
| 1.3.1 CVD技术与粉体包覆的发展与现状 |
| 1.3.2 工业窑炉的发展现状 |
| 1.3.3 回转窑炉控制系统的发展现状 |
| 1.4 课题主要研究内容 |
| 1.5 论文的内容安排 |
| 第二章 CVD回转窑炉控制系统方案设计 |
| 2.1 CVD回转窑炉工作原理 |
| 2.1.1 CVD粉体包覆技术 |
| 2.1.2 CVD回转窑炉工作原理 |
| 2.2 CVD回转窑炉控制系统的设计要求 |
| 2.2.1 CVD回转窑炉控制系统总体需求 |
| 2.2.2 控制对象技术指标 |
| 2.3 控制系统总体方案设计 |
| 2.3.1 控制系统设计的基本思想 |
| 2.3.2 控制系统整体框架设计 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 CVD回转窑炉控制系统硬件设计与控制实现 |
| 3.1 控制系统硬件功能需求分析与选型 |
| 3.1.1 控制系统硬件功能需求分析 |
| 3.1.2 控制系统硬件选型 |
| 3.2 模糊PID温控算法设计实现 |
| 3.2.1 模糊PID系统构建 |
| 3.2.2 输入变量的模糊化 |
| 3.2.3 输出控制变量的精确化 |
| 3.2.4 模糊PID温控算法MATLAB/Simulink模拟 |
| 3.2.5 温度控制模糊PID算法实现 |
| 3.3 窑炉炉压检测与自动调节单元设计与实现 |
| 3.3.1 炉压采样管路设计 |
| 3.3.2 炉压模糊控制器设计 |
| 3.3.3 炉压模糊控制算法实现 |
| 3.4 下位机控制程序设计与实现 |
| 3.4.1 PLC程序设计 |
| 3.4.2 硬件组态与人机交互界面设计 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 远程监控系统设计与实现 |
| 4.1 远程监控系统总体设计 |
| 4.1.1 软件需求分析与框架设计 |
| 4.1.2 通讯协议选择 |
| 4.2 软件功能设计与实现 |
| 4.2.1 数据采集及共享 |
| 4.2.2 远程客户端对生产现场的监控实现 |
| 4.2.3 数据可视化及异常识别 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 系统控制精度试验及结果分析 |
| 5.1 窑炉温度控制精度试验及结果分析 |
| 5.1.1 试验方案设计 |
| 5.1.2 试验结果分析 |
| 5.2 炉压自动控制试验与结果分析 |
| 5.2.1 炉压控制要求及试验方案设计 |
| 5.2.2 试验结果分析 |
| 5.3 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 论文主要完成工作 |
| 6.2 后续工作展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 在学期间的研究成果 |
（3）用于一氧化氮转化的同轴圆柱介质阻挡放电负载建模与电源设计（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 介质阻挡放电在NO脱除中的应用 |
| 1.2.1 低温等离子体 |
| 1.2.2 介质阻挡放电 |
| 1.2.3 介质阻挡放电在NO脱除中的应用 |
| 1.3 介质阻挡放电的影响因素 |
| 1.3.1 频率、电压幅值、电压波形对介质阻挡放电的影响 |
| 1.3.2 电极形状、介质 |
| 1.4 介质阻挡放电等效负载模型 |
| 1.5 介质阻挡放电电源 |
| 1.5.1 电压源谐振变换器 |
| 1.5.2 电流源谐振变换器 |
| 1.6 本文研究内容 |
| 第二章 同轴圆柱DBD半周不对称分段负载模型 |
| 2.1 断续电流模式电压源谐振变换器 |
| 2.2 半周不对称分段负载模型 |
| 2.2.1 李萨如图形法获取非线性箝位模型等效参数 |
| 2.2.2 同轴圆柱反应器正反半周放电不对称现象 |
| 2.2.3 正负半周放电不对称的机理解释 |
| 2.2.4 正负半周放电不对称现象与放电频率、功率的关系 |
| 2.2.5 半周不对称等效负载模型的建立 |
| 2.3 实验验证及推论 |
| 2.3.1 半周不对称分段负载模型的实验验证 |
| 2.3.2 等效负载模型参数随频率、功率的变化 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 介质阻挡放电的电源优化设计 |
| 3.1 带半周不对称分段负载模型的电压源谐振变换器状态描述 |
| 3.2 高频变压器与可调电感设计 |
| 3.2.1 高频变压器设计 |
| 3.2.2 可调电感设计 |
| 3.3 实验验证 |
| 3.4 MODBUS远程通信及控制系统 |
| 3.4.1 MODBUS协议简介 |
| 3.4.2 通信系统框架 |
| 3.4.3 通信系统的实现 |
| 3.4.4 功能验证 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 同轴圆柱DBD对 NO转化效果研究 |
| 4.1 气体处理实验平台 |
| 4.2 一氧化氮转化效果研究 |
| 4.2.1 内电极材料对NO转化效果的影响 |
| 4.2.2 高气体流量下的NO转化效果 |
| 4.2.3 电源频率对高流量下NO转化效果的影响 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 本文工作总结 |
| 5.2 工作展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间所取得的科研成果 |
（4）NC电镀工业园区污水处理工艺方案及自动控制（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景与目的意义 |
| 1.1.1 课题所依托的实际工程 |
| 1.1.2 研究背景 |
| 1.1.3 研究的目的意义 |
| 1.2 电镀废水处理技术研究现状 |
| 1.2.1 化学法的研究现状 |
| 1.2.2 电解法的研究现状 |
| 1.2.3 离子交换法的研究现状 |
| 1.2.4 膜分离的研究现状 |
| 1.3 电镀废水处理技术应用现状 |
| 1.3.1 化学法的应用现状 |
| 1.3.2 电解法的应用现状 |
| 1.3.3 离子交换法的应用现状 |
| 1.3.4 膜分离法的应用现状 |
| 1.4 电镀污泥处理技术研究现状 |
| 1.4.1 浓缩脱水工艺处理电镀污泥研究现状 |
| 1.4.2 电镀污泥资源化研究现状 |
| 1.4.3 等离子技术处理电镀污泥研究现状 |
| 1.5 电镀污泥处理技术应用现状 |
| 1.5.1 浓缩脱水工艺处理电镀污泥应用现状 |
| 1.6 研究内容及技术线路 |
| 1.6.1 课题研究内容 |
| 1.6.2 技术路线 |
| 2 电镀工业园区废水水质分析及处理规模确定 |
| 2.1 项目概况与自然条件 |
| 2.2 电镀废水及污泥处理量的确定 |
| 2.2.1 通过调查和园区规划确定处理规模 |
| 2.2.2 相似企业的类比结果 |
| 2.2.3 电镀污泥处理规模 |
| 2.3 进、出水水质要求 |
| 2.3.1 实测电镀废水水质 |
| 2.3.2 电镀污染物排放标准 |
| 2.3.3 电镀工业园进出水水质确定及处理程度 |
| 2.4 小结 |
| 3 电镀废水及污泥处理工艺分析及确定 |
| 3.1 电镀废水处理工艺选择原则 |
| 3.2 四种电镀废水处理工艺方案的技术分析与比较 |
| 3.2.1 以化学法为处理工艺的方案 |
| 3.2.2 以电解法为处理工艺的方案 |
| 3.2.3 以离子交换法为处理工艺的方案 |
| 3.2.4 以膜分离法为处理工艺的方案 |
| 3.2.5 电镀废水四种方案比较 |
| 3.3 电镀污泥处理工艺选择原则 |
| 3.4 三种电镀污泥处理工艺方案的技术比较 |
| 3.4.1 以浓缩脱水工艺处理电镀污泥工艺的方案 |
| 3.4.2 以资源化技术处理电镀污泥工艺的方案 |
| 3.4.3 以等离子体裂解焚烧技术为处理工艺的方案 |
| 3.4.4 三种方案比较 |
| 3.5 处理工艺的方案设计及最终处理工艺的确定 |
| 3.5.1 工艺流程图 |
| 3.5.2 工艺流程说明 |
| 3.6 小结 |
| 4 碱性氯化法处理含氰废水效果的实验验证及设计计算 |
| 4.1 碱性氯化法处理含氰废水效果的实验验证 |
| 4.1.1 试验仪器及测定方法 |
| 4.2 碱性氯化法处理含氰废水的效果 |
| 4.2.1 不同氧化剂对含氰废水处理效果的影响 |
| 4.2.2 二氧化氯投加量对处理效果的影响 |
| 4.2.3 pH值对处理效果的影响 |
| 4.2.4 反应温度对处理效果的影响 |
| 4.3 含氰废水处理系统的设计计算 |
| 4.3.1 含氰废水调节池 |
| 4.3.2 破氰池 |
| 4.4 投药量计算 |
| 4.4.1 碱(NaOH)量计算 |
| 4.4.2 氧化剂(ClO_2)量计算 |
| 4.5 小结 |
| 5 化学还原法处理含铬废水效果的实验验证及设计计算 |
| 5.1 化学还原法处理含铬废水效果的实验验证 |
| 5.1.1 实验仪器及测定方法 |
| 5.2 化学还原法处理含铬废水的效果 |
| 5.2.1 还原剂及投加比的选择 |
| 5.2.2 不同加药量对处理效果的影响 |
| 5.2.3 pH值对处理效果的影响 |
| 5.3 含铬废水调节池和还原槽设计计算 |
| 5.3.1. 含铬废水调节池 |
| 5.3.2 还原槽 |
| 5.4 投药量计算 |
| 5.4.1 酸(H_2SO_4)量计算 |
| 5.4.2 还原剂(Na_2S_2O_5)量计算 |
| 5.5 小结 |
| 6 混凝效果的实验验证及设计计算 |
| 6.1 混凝效果的实验验证 |
| 6.1.1 PAM投加量对处理效果的影响 |
| 6.1.2 PAC投加量对处理效果的影响 |
| 6.2 穿孔旋流絮凝池的设计 |
| 6.2.1 已知条件及基本要求 |
| 6.2.2 絮凝池尺寸计算 |
| 6.2.3 污泥斗尺寸计算 |
| 6.2.4 孔口尺寸 |
| 6.2.5 水头损失 |
| 6.2.6 GT值 |
| 6.2.7 旋流絮凝沉淀池设计参数 |
| 6.3 沉淀池的设计 |
| 6.3.1 现有条件及设计要求 |
| 6.3.2 沉淀池面积 |
| 6.3.3 池体高度H |
| 6.3.4 复核管内雷诺数及沉淀时间 |
| 6.3.5 集水系统 |
| 6.3.6 配水槽 |
| 6.3.7 存泥斗 |
| 6.4 小结 |
| 7 电镀废水厂的PLC优化设计 |
| 7.1 废水处理控制系统PLC的设计思路 |
| 7.1.1 对计算机检测系统的主要诉求 |
| 7.2 废水处理控制系统PLC设计的过程 |
| 7.2.1 系统描述及流程图 |
| 7.2.2 组态设计 |
| 7.2.3 控制方式及控制过程 |
| 7.2.4 仪表系统 |
| 7.3 工艺流程图 |
| 7.4 废水处理控制系统PLC的配置 |
| 7.5 小结 |
| 8 运行效果分析 |
| 8.1 重金属离子去除效果分析 |
| 8.2 有机物去除效果分析 |
| 8.3 小结 |
| 9 结论和建议 |
| 9.1 结论 |
| 9.2 建议 |
| 参考文献 |
| 作者简介 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 |
| 致谢 |
（5）基于纳米毛细管成形技术的一维纳米线微型气体传感器的制造（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景及意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 纳米线材料及相关气体传感器的研究现状 |
| 1.2.2 有序纳米线阵列制造方法的研究现状 |
| 1.2.3 纳米压印技术的研究现状 |
| 1.3 本课题主要研究内容 |
| 第二章 纳米毛细管成形技术的工艺及应用研究 |
| 2.1 纳米毛细管成形技术的工艺研究 |
| 2.1.1 软压印模板的制造研究 |
| 2.1.2 纳米毛细管成形技术的工艺步骤 |
| 2.2 纳米毛细管成形技术的应用研究 |
| 2.2.1 纳米毛细管成形技术在硬质基底上的应用研究 |
| 2.2.2 纳米毛细管成形技术在柔性基底上的应用研究 |
| 2.3 本章小结 |
| 第三章 基于纳米线的硬质微型气体传感器的制造和传感研究 |
| 3.1 硬质基底上纳米线的电学特性和无机气体检测系统搭建 |
| 3.1.1 硬质基底上纳米线的电学特性研究 |
| 3.1.2 无机气体检测系统的搭建 |
| 3.2 基于纳米线的硬质微型传感器的气体传感研究 |
| 3.2.1 基于纳米线的微型传感器对无机气体的响应研究 |
| 3.2.2 微型气体传感器对无机气体的传感机理研究 |
| 3.2.3 基于纳米线的微型传感器与薄膜式传感器的性能比较 |
| 3.3 本章小结 |
| 第四章 基于纳米线的电子鼻系统的制造和传感研究 |
| 4.1 电子鼻检测系统设计和电学特性 |
| 4.1.1 电子鼻检测系统的设计和制造 |
| 4.1.2 电子鼻检测系统的电学特性 |
| 4.2 电子鼻检测系统的性能测试 |
| 4.2.1 电子鼻检测系统的气体响应 |
| 4.2.2 电子鼻检测系统对挥发性有机化合物传感机理研究 |
| 4.2.3 电子鼻检测系统对挥发性有机化合物识别的研究 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 基于纳米线的柔性微型传感器和可穿戴设备的制造 |
| 5.1 基于纳米线的柔性微型传感器的性能测试 |
| 5.1.1 基于纳米线的柔性微型传感器的电学特性 |
| 5.1.2 基于纳米线的柔性微型传感器的机械特性 |
| 5.1.3 基于纳米线的柔性微型传感器的气体响应研究 |
| 5.2 基于纳米线的手机交互式可穿戴检测系统的设计和应用研究 |
| 5.2.1 手机交互式可穿戴气体检测系统的设计和制造 |
| 5.2.2 手机交互式可穿戴气体检测系统的实时检测应用研究 |
| 5.3 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 论文研究内容 |
| 6.2 论文创新点 |
| 6.3 后续研究工作展望 |
| 参考文献 |
| 附录 A |
| 附录 B |
| 发表论文和参加科研情况说明 |
| 致谢 |
（6）大气压微波等离子体炬工作平台控制系统的设计与实现（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 大气压等离子体概述 |
| 1.1.1 等离子体的基本概念与分类 |
| 1.1.2 大气压等离子体发生装置及应用 |
| 1.2 等离子体装置控制系统发展概述 |
| 1.3 本文研究背景及内容 |
| 1.3.1 研究背景 |
| 1.3.2 研究内容 |
| 2 大气压微波等离子体炬工作平台 |
| 2.1 微波能量的产生 |
| 2.2 微波能量的传输、阻抗匹配及等离子体激励 |
| 2.3 大气压微波等离子体炬的气流量控制 |
| 3 大气压微波等离子体炬控制系统的设计 |
| 3.1 总体方案 |
| 3.2 LabVIEW与仪器控制 |
| 3.3 系统功能模块 |
| 3.3.1 等离子体炬发生装置控制模块 |
| 3.3.2 质量流量控制器模块 |
| 3.3.3 微波功率源控制模块 |
| 3.3.4 图像采集模块 |
| 3.3.5 控制系统前面板 |
| 4 微波等离子体炬控制系统的实现及其在CO_2放电研究中的应用 |
| 4.1 微波等离子体炬控制系统的实现 |
| 4.2 利用大气压微波等离子体炬产生CO_2等离子体放电的研究 |
| 4.2.1 大气压微波CO_2等离子体炬放电形态的特性分析 |
| 4.2.2 大气压微波CO_2等离子体炬发射光谱的初步诊断 |
| 4.3 后续工作 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 |
| 致谢 |
（7）基于激光3D加工处理系统的含Cu材料表面处理技术研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 |
| 1.2 激光表面处理技术 |
| 1.2.1 激光扫描技术 |
| 1.2.2 激光扫描技术在材料表面处理中的应用 |
| 1.3 含Cu材料激光表面处理的研究现状 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 |
| 第二章 含Cu材料激光表面处理技术的理论研究 |
| 2.1 激光波长对金属材料吸收率的影响 |
| 2.1.1 激光与物质的相互作用 |
| 2.1.2 金属材料对激光的吸收机制 |
| 2.1.3 Cu对激光的吸收率 |
| 2.2 离焦量对等离子体冲击波力学效应的影响 |
| 2.2.1 激光等离子体的产生 |
| 2.2.2 激光支持爆轰波及其理论模型 |
| 2.2.3 离焦量对激光等离子体冲击波力学作用机制的影响 |
| 2.3 本章小结 |
| 第三章 含Cu材料激光表面处理技术的实验研究 |
| 3.1 激光波长对含Cu材料表面处理效果的影响 |
| 3.1.1 近红外激光实验系统的搭建 |
| 3.1.2 中红外激光实验系统的搭建 |
| 3.1.3 两种激光对Cu络合物表面处理的影响 |
| 3.2 激光模式对含Cu材料表面处理效果的影响 |
| 3.3 激光脉冲波形对含Cu材料表面处理效果的影响 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 激光 3D加工处理系统研究 |
| 4.1 激光 3D加工处理系统 |
| 4.1.1 实验系统的自动控制要求 |
| 4.1.2 激光器及光学元件的优化选定 |
| 4.1.3 激光 3D加工处理系统的搭建 |
| 4.2 激光 3D加工处理系统驱动控制的实现 |
| 4.2.1 激光光束的动态控制 |
| 4.2.2 转盘及卡具的驱动控制 |
| 4.2.3 软件控制的实现 |
| 4.3 激光 3D加工处理系统的性能测试及误差校正 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 Cu络合物的激光 3D表面处理分析 |
| 5.1 实验样品的制备 |
| 5.1.1 Cu络合物的制备 |
| 5.1.2 基体材料的选定 |
| 5.2 Cu络合物的激光 3D表面处理 |
| 5.3 样品表面特性分析及镀层质量测试 |
| 5.4 Cu络合物表面改性处理技术在手机天线中的应用 |
| 5.5 系统的表面改性处理精度及稳定性分析 |
| 5.5.1 系统表面改性处理的精度分析 |
| 5.5.2 系统的稳定性分析 |
| 5.6 本章小结 |
| 第六章 Cu氧化物的激光 3D表面处理分析 |
| 6.1 实验样品的制备 |
| 6.2 Cu氧化物的激光表面处理 |
| 6.3 激光功率密度对Cu氧化物处理效果的影响 |
| 6.3.1 激光功率密度对样品表面温度场的影响 |
| 6.3.2 样品表面微观特性分析 |
| 6.4 离焦量对Cu氧化物处理效果的影响 |
| 6.4.1 离焦量对样品表面温度场的影响 |
| 6.4.2 样品表面微观形貌及组分分析 |
| 6.4.3 样品表面组分价态分析 |
| 6.5 本章小结 |
| 第七章 总结与展望 |
| 7.1 本论文的创新点 |
| 7.2 工作总结 |
| 7.3 前景展望 |
| 参考文献 |
| 发表论文和科研情况说明 |
| 致谢 |
（8）基于CAN总线的低温等离子体设备系统（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 典型低温等离子体设备系统 |
| 3 基于CAN总线的低温等离子体设备系统 |
| 3.1 智能节点实现 |
| 3.2 CAN接口卡 |
| 3.3 CAN总线监控系统软件设计 |
| 3.3.1 位定时 |
| 3.3.2 帧标识符分配 |
| 4 测试实验 |
| 5 结束语 |
四、基于现场总线的等离子体表面处理监控系统的设计（论文参考文献）
- [1]CFETR CS模型线圈超导接头关键技术研究[D]. 马光辉. 中国科学技术大学, 2020(01)
- [2]CVD回转窑炉控制系统关键技术研究[D]. 郑鹏. 南京航空航天大学, 2020(07)
- [3]用于一氧化氮转化的同轴圆柱介质阻挡放电负载建模与电源设计[D]. 王若宇. 浙江大学, 2020(12)
- [4]NC电镀工业园区污水处理工艺方案及自动控制[D]. 辛佳诺. 沈阳建筑大学, 2019(05)
- [5]基于纳米毛细管成形技术的一维纳米线微型气体传感器的制造[D]. 唐宁. 天津大学, 2019(06)
- [6]大气压微波等离子体炬工作平台控制系统的设计与实现[D]. 田野松. 大连理工大学, 2019(02)
- [7]基于激光3D加工处理系统的含Cu材料表面处理技术研究[D]. 赵玛利. 天津大学, 2015(08)
- [8]基于CAN总线的低温等离子体设备系统[J]. 王家乐,程健,刘怡,桑庆双. 仪表技术与传感器, 2012(01)
- [9]洛阳石化BOPP薄膜电晕系统探讨[J]. 焦明立,郭莉. 自动化博览, 2009(05)
- [10]等离子体表面处理监控系统数据通讯的CPLD实现[J]. 谭立超,潘林峰,何翔. 中南民族大学学报(自然科学版), 2002(04)